분류 전체보기43 [반도체 8대 공정] DC Plasma 생성 원리 [반도체 8대 공정] DC Plasma 생성 원리 DC Plasma는 Plasma를 발생시키는 방법 중 하나로, Dry Etch 공정에서도 사용되지만, 스퍼터링 공정 등 박막 증착 공정에서도 사용됩니다. DC Plasma DC 플라즈마를 이해하기 위해 우선 두 기판에 강한 전압을 가했다고 가정해 보겠습니다. 위 그림 상 오른쪽에 (+) 전압을, 왼쪽은 (-) 전압을 가해주었다고 가정해 보겠습니다. 강한 전압 즉 Energy를 가하면, Chamber 내 위와 같이 Plasma 영역이 가운데 형성이 되며, 왼쪽에는 음극 Sheath 영역, 오른쪽에는 양극 Sheath 영역이 생성됩니다. 양극 쉬스(Anode sheath) 양극 쉬스 영역이 생성되는 원리부터 알아보겠습니다. 먼저 아셔야 할 개념은 전자는 이온.. 2023. 2. 3. [반도체 8대 공정] Dry Etch 평가 항목 및 주요 부가 기술(하드마스크) [반도체 8대 공정] Dry Etch의 평가 항목 및 주요 부가 기술(하드마스크) Dry Etch의 평가 항목 (1) Etch Rate Etch Rate, 한국말로 식각률을 의미합니다. 식각률이란 일정 시간 동안 박막의 두께를 식각 시간으로 나눈 값입니다. 즉 식각률이 높다는 건 일정 시간에 더 많은 박막을 식각 할 수 있음을 의미합니다. 이는 플라즈마 가스, 압력, 박막의 종류, 온도 등 다양한 변수에 따라 식각률이 달라질 수 있습니다. (2) Selectivity 두 번째는 선택비입니다. 식각 과정에서 식각하는 박막은 서로 다른 물질일 것입니다. 이때 이 물질 간에 식각율의 비율을 의미합니다. Etch 공정 전에 나오는 공정은 Photo 공정으로 PR이 patterning 된 상태로 Etch 공정이 .. 2023. 2. 2. TSMC 세계 1위 파운드리 기업 TSMC는 파운드리 분야에 세계 1위에 위치한 대만 기업입니다. 현재 삼성전자와 치열한 경쟁구도를 벌이고 있는데요 이 상황에 대해 알아보려고 합니다. 먼저 파운드리란 반도체를 위탁생산하는 기업을 의미합니다. 위탁생산이란 다른 기업이 설계한 반도체를 수주받아 생산해주는 기업을 의미합니다. 그렇다면 왜 설계하는 기업이 직접 생산하지 않고 위탁을 할까요? 그 이유는 위험한 투자비용입니다. 반도체 장비는 500억에서 많게는 1500억까지 하는 장비들이 한두 대가 아닌 수십, 수백 대가 필요합니다. 설계회사들은 경쟁이 치열해 설계만 하는데 바쁩니다. 예를 들어 휴대폰에 들어가는 비메모리 반도체 칩을 만드는 미국의 퀄컴의 경우 설계인력만 수만 명에 다다릅니다. 따라서 비메모리 반도체의 생태계는 설계하는 회사와 생산.. 2021. 1. 18. 휴대폰 저렴하게 구입하는 방법 안녕하세요. 오늘은 휴대폰 저렴하게 구입하는 방법에 대해 알아보도록 하겠습니다. 글을 읽기 전 이 글은 휴대폰 대리점에서 구입하시는 초보분들을 위한 글입니다. 자급제나 인터넷 구입과 관련된 글은 아닙니다. 휴대폰 저렴하게 구입하는 방법 먼저 용어에 대해 알아보겠습니다. 기기변경 : 줄여서 기변이라고 합니다. 통신사 skt, kt, lg 등 쓰고 계신 통신사를 유지하고 기기만 변경하는 걸 의미합니다. 번호이동 : 번호를 바꾸는게 아닙니다. 폰을 구매하실 때 통신사를 옮기면서 구매하는 걸 의미합니다. 공시 지원금 : 휴대폰을 구매하실 때 기기값을 할인. 선택 약정 : 통신비의 25%를 할인. 바로 시작하겠습니다. 먼저 네이버 카페에 "옆 커 폰"이라는 카페에 가입합니다. 가입절차는 간단합니다. 가입하시고 보.. 2021. 1. 16. 이전 1 ··· 3 4 5 6 7 8 9 ··· 11 다음